半导体装备 今日: 0|主题: 300|排名: 16 

微信公众号资讯文章精选： https://mp.weixin.qq.com/s/oEl-c6fMfGfYwK6-Zc-_Ww 芯片制造幕后硬核设备：半导体炉管深度解析 炉管设备是芯片制造的“工业心脏”，虽不似光刻机万众瞩目，却是决定晶圆性能、良率与可靠性的核心幕后英雄。 ...

刘工温馨提示 https://mp.weixin.qq.com/s/yCfvkcVe9c-406LylzqQRQ 夏季高温高湿，注意设备冷凝水

AI谈电镀设备研发系列 Vol.16 | 从单片结果到客户验收的验证体系 https://mp.weixin.qq.com/s/wYd98Xrk8A5DhP-Iv39e1w 电镀设备客户验收不能由单片 wafer result 直接推出。FAT、SAT、工艺验证、可靠性测试、重复性、稳定性、维护周期、测量系统、统计口径和失效判据需要提前定义，并形成可追溯的验证证据包。 ...

微信公众号资讯文章精选： https://mp.weixin.qq.com/s/o48ufFksopVQIipzO9V3dQ 应用材料：异构集成是未来十年AI规模化的核心支撑

AI谈电镀设备研发系列 Vol.15 | 电镀设备整机集成的问题闭环机制 https://mp.weixin.qq.com/s/Cpx3agFLtrejSTEnfYqOdw 电镀设备整机集成的核心不是把子系统装到一起，而是建立可追溯的集成基线、接口控制、问题分级、验证证据和回归测试。液路污染、气泡、节拍冲突、软件报警、机械干涉和厂务波动都需要在整机层面形成跨 ...

真空设备漏了别慌，刘工手把手教你检漏 https://mp.weixin.qq.com/s/klS2OiRgyRKpWrmtLRnbOg 20年真空设备实操经验总结，从土办法到氦质谱，一次讲透

微信公众号资讯文章精选： https://mp.weixin.qq.com/s/nKKv2pR02GYDWnpwZ-U9Jw 不敢裸辞，两年大厂经验废掉太可惜；盲目跳槽，换一家Fab依旧四班倒；跟风转FAE，以为逃离车间，结果随时待命，常年驻外。写这篇文章，专门给：中芯、华虹、积塔、长鑫等一线晶圆厂，工龄2-5年，核心诉求彻底告别固定夜班，作息回归正常的工 ...

AI谈电镀设备研发系列 Vol.14 | 关键件供应链与技术路线风险 https://mp.weixin.qq.com/s/8cJS9yOIu_XLv6dz5zYl4A 电镀设备关键件供应链风险不是采购问题，而是技术路线风险。泵、阀、过滤器、电源、传感器、机器人、密封材料、湿接触材料和化学品兼容件的供应商选择、替代验证和变更管理，都会影响 wafer result、可用性 ...

微信公众号资讯文章精选： https://mp.weixin.qq.com/s/g1AbN6HuwStb18ZEAcMHoA 应用材料：3nm 以下 ，材料和工艺如何助力先进节点升级？

AI谈电镀设备研发系列 Vol.13 | 数据采集、异常检测与可解释控制 https://mp.weixin.qq.com/s/M8Zvyxr1mFBzz2IfuH00xg 电镀设备的数据系统应服务于设备稳定性、异常定位和工程验证。流量、温度、电流、电压、化学、颗粒、维护和 wafer result 需要在统一对象模型、时间戳、recipe step 和测量口径下组织，SPC、 ...

AI谈电镀设备研发系列 Vol.12 | 软件、电气与安全联锁设计 https://mp.weixin.qq.com/s/MEDT4I6iiCtfONGEODFdhA 电镀设备的软件和电气系统需要同时管理设备状态、recipe、运动、电源、液路、报警、权限、SECS/GEM、厂务接口和安全联锁。安全相关功能必须基于风险评估、硬件回路、失效检测和验证证据设计，不能与普通报警 ...

微信公众号资讯文章精选： https://mp.weixin.qq.com/s/a2Dm6J_nwvw85XdFB9RU7w 开关电源以其体积小、效率高、成本低等优点被广泛应用于各种电子电气设备中，应用广泛。为减小开关电源多路不共地输出交叉调整率，提出一种通过人为改变次级漏感方案使主输出与辅助输出漏感匹配，达到输出负载调整率大大降低，使其能运用在 ...

为什么 PVD 设备一加热真空就往上冲 https://mp.weixin.qq.com/s/GqOR6TtBcGZ-zpP8O5diFg 用几句话给大家分析一下，第一个吸附的残余气体时候，第二个，温度上升导致压力变化

微信公众号资讯文章精选： https://mp.weixin.qq.com/s/pCbvM4xotiy2_McMQi1LFw 未来光刻替代技术—NIL技术介绍

微信公众号资讯文章精选： https://mp.weixin.qq.com/s/p5qqTCqAjl_sU0nG8u--cw 深亚微米CMOS时代开启：短沟道效应、先进光刻与CMP共同延续摩尔定律

微信公众号资讯文章精选： https://mp.weixin.qq.com/s/ghM2OKuOc_TCsxsL8u7njQ 22nm平面CMOS巅峰之作：193i光刻、HKMG与CMP如何重塑现代芯片制造

AI谈电镀设备研发系列 Vol.11 | 工艺开发与设备变量闭环 https://mp.weixin.qq.com/s/DrEsFBOnKVX9uP8EDPkJcA 电镀工艺开发不应只输出 recipe。DOE、添加剂管理、前处理、预湿、后清洗、镀后检测和异常定位都需要与设备变量、化学状态、测量系统和过程日志绑定，才能把 wafer result 回溯到可控制、可验证、可维护的设备 ...

AI谈电镀设备研发系列 Vol.10 | 湿法设备材料兼容性与长期可靠性 https://mp.weixin.qq.com/s/flcrTW6u06uXITjg6XvErA 半导体电镀设备的材料选择不能只依据化学兼容性表。PTFE/PFA/PVDF/PP、FFKM、陶瓷、石英、金属件和表面处理都需要围绕析出、颗粒、吸附、腐蚀、溶胀、密封寿命、维护复现和 wafer result 建立验证矩阵 ...

AI谈电镀设备研发系列 Vol.09 | 机械结构从功能样机到稳定量产 https://mp.weixin.qq.com/s/IfQEGyXwVonj2UvYmuBuVg 电镀设备机械结构研发不能停留在动作实现。传片、对准、升降、旋转、夹持、维护空间、颗粒控制、液体携带、腐蚀、MTBF/MCBF、MTTR、DFMEA 和安全联锁都需要转化为可测指标和验证矩阵，才能支撑设备从功能 ...

AI谈电镀设备研发系列 Vol.08 | 电源系统与波形控制的工艺作用 https://mp.weixin.qq.com/s/Ndp58gHS-9nyTVcyswa7zg 电镀电源系统不是简单的电流输出单元，而是电化学反应驱动子系统。DC、pulse、reverse pulse、多区电流、ramp、保护逻辑和过程日志需要与阳极、夹持、流场和化学体系共同设计，才能稳定映射到沉积速率、 ...