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微信公众号资讯文章精选： https://mp.weixin.qq.com/s/2YsA5KG99VSd09hR3kpLHQ 在高深宽比结构中，真正决定成败的，往往不是反应，而是传输 当器件结构进入高深宽比时代，薄膜沉积遇到的困难发生了一次根本变化。

微信公众号资讯文章精选： https://mp.weixin.qq.com/s/kut8Opko9GFnG82qc4wT0g 2026晶圆代工行业全面剖析，全球和中国企业技术节点、产能规划情况概览！

微信公众号资讯文章精选： https://mp.weixin.qq.com/s/fE5hdZc73Xn6bjoIuKZLlw Dose-to-Size（DtS）：为什么“同样的 CD”，背后可能是完全不同的光刻状态 在量产现场，你一定听过这样的话：“CD 对了，就先跑着吧。

微信公众号资讯文章精选： https://mp.weixin.qq.com/s/s9N1oVH20OkWuYUPc2fWPQ 为什么薄膜沉积，几乎永远发生在非平衡状态下 非平衡不是问题，而是薄膜工程的前提

微信公众号资讯文章精选： https://mp.weixin.qq.com/s/dnQ68VA4y2aVUmwUx6fhUA 为什么决定薄膜性能的，从来不是“材料本身” 在半导体工艺里，我们经常会用一句话来描述问题：“这个薄膜材料不行。

微信公众号资讯文章精选： https://mp.weixin.qq.com/s/rovt7nU_nmpL5AC-QIGfPw 《Handbook of Thin Film Deposition》在讲什么？ 如果只用一句话概括《Handbook of Thin Film Deposition》这本书，它不是在教你“某

微信公众号资讯文章精选： https://mp.weixin.qq.com/s/nR4pEyrVyiyHfkFaSmnORg 《Low Power Design Essentials》内容深度解析——从功耗本质到可落地的方法论 今天给大家介绍的《Low Power Design Essentials》并不是一本“技巧大全”式的低功耗手册 ...

微信公众号资讯文章精选： https://mp.weixin.qq.com/s/Fb3dMHF69r3UAF_YPBPlug 中国三亚！2月2-5日！半导体物理与电子器件研讨会！

微信公众号资讯文章精选： https://mp.weixin.qq.com/s/jcjusmBWdWh1y5H21zdNDQ Process Window：为什么光刻工程师更关心“范围”，而不是“最优点” 在很多外行看来，光刻优化似乎是一件很直观的事：找到一个曝光剂量、一个焦距，让 CD 对准目标值不就行了吗？ ...

微信公众号资讯文章精选： https://mp.weixin.qq.com/s/xSlUtTZEfMRGAYhM05cJyA 光刻里的 CD，到底是“哪里”？从《Field Guide to Optical Lithography》重新理解 CD 的本质 在上一篇为什么先进工艺中 CD 窗口会越来越“窄”？，我们介绍了先进工艺CD窗口越来越窄，好多朋友后台私信，CD到底该怎么理解，今天带大家一 ...

微信公众号资讯文章精选： https://mp.weixin.qq.com/s/yw876_egjyTYHKNSwR9PkQ 《Integrated Circuit Test Engineering: Modern Techniques》 《Integrated Circuit Test Engineering: Modern Techniques

微信公众号资讯文章精选： https://mp.weixin.qq.com/s/s8ZT0YKDqkuStFpZk4r11Q 成像对比度，为什么比分辨率更重要？

微信公众号资讯文章精选： https://mp.weixin.qq.com/s/KYJDSPGDVfWva1pzrLurFg PEB：为什么 1℃ 的波动，就能毁掉一个 CD 窗口？ 在很多光刻流程图中，PEB 往往只是一行很小的字：“Post-Exposure Bake”。

微信公众号资讯文章精选： https://mp.weixin.qq.com/s/2EBguFoFxVnq4a6SD4h18A 《ASML’s Architects》：理解ASML，不是从EUV开始，而是从“系统工程思维”开始 如果说很多半导体书是在讲“技术路线”，那么《ASML’s Architects》讲的是：“在极端不确定、极端复 ...

微信公众号资讯文章精选： https://mp.weixin.qq.com/s/GGWzRDeVSeuc97xEmmF1fQ 光刻胶在光刻中到底扮演了什么角色？——为什么它不是“被动材料”

微信公众号资讯文章精选： https://mp.weixin.qq.com/s/4fWVtVYdKjMUlcfgb9Yt1g 曝光结束后，晶圆上到底发生了什么？从《Field Guide to Optical Lithography》看“潜像”的真正含义 在光刻讨论中，“曝光”往往被当作一个分水岭：曝光之前是准备，曝光之后就是结果。 ...

微信公众号资讯文章精选： https://mp.weixin.qq.com/s/oO3223I0PTx4q7MCzxAMMw 关注公众号，点击公众号主页右上角“ · · · ”，设置星标，实时关注功率半导体生态圈最新资讯

微信公众号资讯文章精选： https://mp.weixin.qq.com/s/ey8dyHlUEqPgV3WjV9kxDw 《Optical Lithography: Here Is Why》 这本书是 Burn J. Lin的代表作之一，也是SPIE 光刻系列中极具“方法论”色彩的一本。

微信公众号资讯文章精选： https://mp.weixin.qq.com/s/IWVdM7mwS6VS92qakdPgZg 《Integrated Circuit Test Engineering: Modern Techniques》 《Integrated Circuit Test Engineering: Modern Techniques

微信公众号资讯文章精选： https://mp.weixin.qq.com/s/_Fc7VFd1nea8RmZ31Q398A 《Design Rules in a Semiconductor Foundry》：一本真正站在晶圆厂视角写出的设计规则全书 在集成电路制造中，“设计规则（Design Rules，DR）”往往被认为是版图团队的专业词汇。 ...