[学晶圆] 晶圆边缘缺陷问题
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晶圆边缘缺陷问题
随着先进芯片开发的复杂性不断增加,减少晶圆边缘、倒角和背面缺陷至关重要,因为单个缺陷可能在多工艺和多芯片封装中产生后果。在晶圆边缘生产高良率芯片的挑战有多种因素,包括晶圆均匀性、工艺变差以及多层效应(如薄 ...
[学晶圆] CMOS第一层互联
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CMOS第一层互联
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[学晶圆] 不同工艺节点对功耗有何影响?
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不同工艺节点对功耗有何影响?
[学晶圆] 光刻过程中Overlay技术详解
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光刻过程中Overlay技术详解
半导体器件结构的日益复杂,Overlay 测量工具在精度提升的同时,成功保持了可接受的测量吞吐率,能够在精度与效率之间找到平衡,满足了先进制程的双重需求。 ...
[学晶圆] CMOS制造工艺节点大揭秘!
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CMOS制造工艺节点大揭秘!
[学晶圆] 无门槛,人人可参与的“算力租赁”项目
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无门槛,人人可参与的“算力租赁”项目
[学晶圆] 为什么离子注入时要偏离一定的角度?
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为什么离子注入时要偏离一定的角度?
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[学晶圆] 高K介电材料的应用场景有哪些?
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高K介电材料的应用场景有哪些?
[学晶圆] CMOS工艺中高K介电材料的优势
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CMOS工艺中高K介电材料的优势
[芯域前沿] 硅芯片的末路?新材料崛起开启后摩尔时代
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硅芯片的末路?新材料崛起开启后摩尔时代
一块指甲盖大小的硅片上,百亿晶体管已挤到喘不过气,量子隧穿效应正悄悄吞噬它们的最后一点生存空间。
[芯片揭秘] 第458期|128年陶氏公司:以有机硅技术,破局热管理芯车双赛道
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第458期|128年陶氏公司:以有机硅技术,破局热管理芯车双赛道
2nm工艺的AI芯片来临,芯片散热成为拦路虎,如何破
[功率半导体器件] 光刻胶和掩模版的极性
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光刻胶和掩模版的极性
光刻胶(Photoresist,PR)是具有光敏感性的化合物。掩模版(Photomask,Mask)又称光罩、光罩版,是集成电路微电子制造中光刻工艺所使用的母版图形。 ...
[半导体材料与设备] 逻辑芯片定义、分类及与模拟芯片的对比
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逻辑芯片:可编程逻辑器件(学名Programmable Logic Device,PLD)的核心价值在硬件逻辑可重构性。用户通过编程工具直接配置内部逻辑门电路的通路组合,就像搭建乐高积木一样,形成定制化的数字运算网络。 ...
[锐芯闻] Technavio报告:全球半导体光刻胶剥离市场分析(2025-2029年)
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Technavio报告:全球半导体光刻胶剥离市场分析(2025-2029年)
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[半导体材料与设备] 气瓶概念、分类、技术参数、存放原则与运输规范
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气瓶作为一种可移动压力容器,广泛应用于工业生产和日常生活领域。鉴于其设计特性(承受内部高压)、充装介质特性(通常具备易燃、易爆、有毒或强腐蚀性)以及使用特性(反复充装、移动性强、使用环境和人员多变),其安全风险等级显著高于 ...
[半导体材料与设备] 为啥要给管道“穿衣服”、“贴标签”?
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选对“色号”,管道“穿”对衣(严格按标准选识别色)。
挂好“名牌”,身份不谜题(名称、流向清晰标注)。
高危大佬,黄黑预警(危险化学品管道必加危险标识)。
消防通道,刻上“V”章(消防专用管道有特殊待遇)。 ...
[半导体材料与设备] 电子特气:工艺用途和分类
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在芯片和显示面板制造中,几个核心环节——给晶片(硅片)“盖薄膜”(薄膜制造)、精确“雕刻”电路(刻蚀)、精准“添加杂质”改变导电性(掺杂)、在表面“喷涂”材料(气相沉积、扩散)——都需要特定种类的电子特气来完成“魔法”。 ...